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機器: Ⅱ-301(3) - ArクラスターイオンビームXPS/PHI5000VersaProbeⅡ|Ar Cluster Ion Beam XPS/PHI5000VersaProbeⅡ
開始時刻: 2017/07/20 10:00
終了時刻: 2017/07/21 22:00
所要時間: 36 時間
予約者: 青木 美佳 (mika_aoki)
教員名:
Eメールアドレス:
TEL:
使用記録:
(測定条件等):
AR-XPS, Ar sputter
所属部門: 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices
最終更新: 17:18:56 - Thursday 08 June 2017
tel: 2880(Tanaka lab.)
PI: Atsuomi shundo