機器: | Ⅱ-301(3) - ArクラスターイオンビームXPS/PHI5000VersaProbeⅡ|Ar Cluster Ion Beam XPS/PHI5000VersaProbeⅡ |
開始時刻: | 2017/07/20 10:00 |
終了時刻: | 2017/07/21 22:00 |
所要時間: | 36 時間 |
予約者: | 青木 美佳 (mika_aoki) |
教員名: | |
Eメールアドレス: | |
TEL: | |
使用記録: (測定条件等): |
AR-XPS, Ar sputter |
所属部門: | 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices |
最終更新: | 17:18:56 - Thursday 08 June 2017 |
tel: | 2880(Tanaka lab.) PI: Atsuomi shundo |