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機器: Ⅱ-301(3) - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303
開始時刻: 2019/11/04 09:00
終了時刻: 2019/11/04 21:00
所要時間: 12 時間
予約者: George Harrington (george_Harrington)
教員名: 佐々木 一成
Eメールアドレス: harrington.frederick.george.302@m.kyushu-u.ac.jp
TEL: 092-802-6736
使用記録:
(測定条件等):
所属部門: 電気化学エネルギー変換|Electrochemical Energy Conversion
最終更新: 18:31:58 - Friday 01 November 2019
tel: 6736