English 日本語

予約画面
ログイン

機器: Ⅱ-301(3) - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303
開始時刻: 2019/10/04 16:00
終了時刻: 2019/10/07 10:00
所要時間: 66 時間
予約者: George Harrington (george_Harrington)
教員名: 佐々木 一成
Eメールアドレス: harrington.frederick.george.302@m.kyushu-u.ac.jp
TEL: 092-802-6736
使用記録:
(測定条件等):
Power Outage
所属部門: 電気化学エネルギー変換|Electrochemical Energy Conversion
最終更新: 17:12:55 - Thursday 03 October 2019
tel: 6736