機器: | Ⅱ-301(3) - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303 |
開始時刻: | 2019/07/23 14:00 |
終了時刻: | 2019/07/24 22:00 |
所要時間: | 32 時間 |
予約者: | Son Minkyu (son_minkyu) |
教員名: | |
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使用記録: (測定条件等): |
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所属部門: | 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices |
最終更新: | 17:43:08 - Monday 22 July 2019 |
tel: | 6744 |