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機器: Ⅱ-301(3) - ArクラスターイオンビームXPS/PHI5000VersaProbeⅡ|Ar Cluster Ion Beam XPS/PHI5000VersaProbeⅡ
開始時刻: 2018/12/18 00:00
終了時刻: 2018/12/20 00:00
所要時間: 2 日
予約者: 寺山 友規 (yuki_terayama)
教員名:
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TEL:
使用記録:
(測定条件等):
マッピング
試料:表面修飾チタン基板
所属部門: 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices
最終更新: 09:47:19 - Friday 16 November 2018
tel: 寺山友規、特任助教、工学研究院化学工学部門 兼 I2CNER構成員 
092-802-2769