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機器: Ⅱ-301(3) - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303
開始時刻: 2019/08/01 10:00
終了時刻: 2019/08/01 18:00
所要時間: 8 時間
予約者: Son Minkyu (son_minkyu)
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(測定条件等):
所属部門: 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices
最終更新: 19:36:35 - Wednesday 31 July 2019
tel: 6744