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機器: Ⅱ-301(3) - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303
開始時刻: 2019/03/12 15:00
終了時刻: 2019/03/14 19:00
所要時間: 52 時間
予約者: Son Minkyu (son_minkyu)
教員名: 石原 達己 (Tatsumi Ishihara)
Eメールアドレス: minkyu.son@i2cner.kyushu-u.ac.jp
TEL: 092-802-6744
使用記録:
(測定条件等):
所属部門: 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices
最終更新: 10:32:51 - Friday 08 March 2019
tel: 6744