機器: | 404 - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303 |
開始時刻: | 2018/10/31 13:00 |
終了時刻: | 2018/11/01 19:00 |
所要時間: | 30 時間 |
予約者: | Son Minkyu (son_minkyu) |
教員名: | 石原 達己 (Tatsumi Ishihara) |
Eメールアドレス: | minkyu.son@i2cner.kyushu-u.ac.jp |
TEL: | 092-802-6744 |
使用記録: (測定条件等): |
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所属部門: | 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices |
最終更新: | 14:55:35 - Tuesday 30 October 2018 |
tel: | 6744 |