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機器: 404 - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303
開始時刻: 2018/10/01 14:00
終了時刻: 2018/10/01 21:00
所要時間: 7 時間
予約者: Son Minkyu (son_minkyu)
教員名: 石原 達己 (Tatsumi Ishihara)
Eメールアドレス: minkyu.son@i2cner.kyushu-u.ac.jp
TEL: 092-802-6744
使用記録:
(測定条件等):
所属部門: 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices
最終更新: 15:41:25 - Friday 28 September 2018
tel: 6744