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ArクラスターイオンビームXPS/PHI5000VersaProbeⅡ [ 404 ]

機器の詳細情報

機器情報 メーカー名:
アルバックファイ/ULVACΦ

性能:
XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) is for the elemental analysis of a specimen and can measure elemental compositions, chemical and electronic state quantitatively. In this equipment, Ar cluster ion beam system is attached to etch the sample surface mildly for intentionally exposure of deeper layers of the sample in depth-profiling XPS.

[Specifications]
●Minimum X-ray Beam Size: < 10μm
●Minimum Energy Resolution: < 0.50 eV (Ag3d 5/2)
●Maximum Sensitivity: > 1,000,000cps above background (Ag3d 5/2)
●Options: Ar Gas Cluster Ion Beam Gun (GCIB), C60 Ion Gun, Dual Anode X-ray Source, Ultra Violet Source (UPS), Sample Transfer Vessel, Hot/Cold Stage, Scanning Auger Microscopy, etc.


設置場所:
404, I2CNER BuildingⅠ

その他:


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サポート情報 営業担当者等:
営業担当:アルバックファイ㈱ 国内営業部 専門部長 辻野勇
tel:0467-85-4220
E-mail:isamu_tsujino@ulvac.com
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機器の管理者 shigenori_fujikawa, ken_kojio


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[Contact]
Main researcher in charge
Prof. Shigenori Fujikawa Ext. 90- 6872 (Ito Campus)
fujikawa.shigenori.137@m.kyushu-u.ac.jp
Sub researcher in charge
Prof. Ken Kojio 092-802-2516
kojio@cstf.kyushu-u.ac.jp


[Note]
XPS新規ユーザーはX線登録が必要です。
手続きに関しては、支援部門"wpisomu@jimu.kyushu-u.ac.jp"(担当:天野)にお問い合わせ下さい。
Any NEW user of XPS, needs to be registered as RI user.
For the detail, please contact to Administrative Office (Amano) "wpisomu@jimu.kyushu-u.ac.jp".
 
 
 
 
 
 
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