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光電子顕微鏡システム/My PEEM AV318-A1 [ 403 ]

機器の詳細情報

機器情報 メーカー名:
㈱管製作所/KAN MANUFACTORY CO.,LTD

性能:
Photoemission Electron microscopy (PEEM) utilizes local variations in electron emission to generate image contrast. The excitation is produced by UV light. PEEM measures the coefficient indirectly by collecting the emitted secondary electrons generated in the electron cascade that follows the creation of the primary core hole in the absorption process. PEEM is a surface sensitive technique because the emitted electrons originate from a very shallow layer.

[Specifications]
●Vacuum Pressure: 10-7 Pa
●Field of View: 40~800μm
●Magnification Ratio: 50~1000
●Diaphragm(Movable): 20/50/100μm
●Light Source: Various UV Light
●Dimensions: W1700×D1100×H1900


設置場所:
403, I2CNER BuildingⅠ

その他:
[Contact]
Assoc. Dr. H. Tanaka Ext. 90- 3075 (Ito Campus)
Administrative Office (Fujimoto,Yatomaru)
i2cner_lab@i2cner.kyushu-u.ac.jp
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サポート情報 営業担当者等:
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機器の管理者 hiroyoshi_tanaka

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