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機器: Ⅱ-301(3) - ArクラスターイオンビームXPS/PHI5000VersaProbeⅡ|Ar Cluster Ion Beam XPS/PHI5000VersaProbeⅡ
開始時刻: 2019/08/24 00:00
終了時刻: 2019/08/26 00:00
所要時間: 2 日
予約者: 大谷部 嶺志 (takashi_oyabe)
教員名:
Eメールアドレス:
TEL:
使用記録:
(測定条件等):
RuFe
所属部門: 触媒的物質変換|Catalytic Materials Transformations
最終更新: 18:02:38 - Tuesday 23 July 2019
tel: 6873
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