| 機器: | Ⅱ-301(3) - ３元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303 |
| 開始時刻: | 2018/10/11 10:00 |
| 終了時刻: | 2018/10/11 12:00 |
| 所要時間: | 2 時間 |
| 予約者: | George Harrington (george_Harrington) |
| 教員名: | |
| Eメールアドレス: | |
| TEL: | |
| 使用記録: (測定条件等): |
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| 所属部門: | 電気化学エネルギー変換|Electrochemical Energy Conversion |
| 最終更新: | 09:48:20 - Thursday 11 October 2018 |
| tel: | 6736 |