機器: | Ⅱ-301(3) - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303 |
開始時刻: | 2018/10/09 18:00 |
終了時刻: | 2018/10/10 11:00 |
所要時間: | 17 時間 |
予約者: | George Harrington (george_Harrington) |
教員名: | |
Eメールアドレス: | |
TEL: | |
使用記録: (測定条件等): |
|
所属部門: | 電気化学エネルギー変換|Electrochemical Energy Conversion |
最終更新: | 17:41:43 - Tuesday 09 October 2018 |
tel: | 6736 |