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機器: Ⅱ-301(3) - 3元スパッタリング成膜装置/TS-DC・RF303|RF Plasma Sputtering Apparatus/TS-DC・RF303
開始時刻: 2018/09/04 10:00
終了時刻: 2018/09/06 18:00
所要時間: 56 時間
予約者: Son Minkyu (son_minkyu)
教員名:
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TEL:
使用記録:
(測定条件等):
所属部門: 光エネルギー変換分子デバイス|Molecular Photoconversion Devices
最終更新: 13:55:18 - Wednesday 05 September 2018
tel: 802-6744
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